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大口径衍射光学元件的研制
修改时间: 2010-06-09

曝光光学系统“大口径衍射光学元件的研制”研制成功大口径脉宽压缩光栅掩膜,在介质反射光栅制作技术、测试和工艺达到国际先进水平,填补了我国在该领域的空白。

     研制了大口径全息曝光系统、适合于长时间曝光的全息干涉条纹锁定系统等关键设备,形成了大面积光刻胶涂布、全息曝光和显影的完整工艺,设计研制了全息曝光监测和显影监测等工艺监测系统,建立了大口径衍射光学元件全息掩模研制的试验基地,研制出适合刻蚀工艺的脉冲压缩光栅和取样光栅全息掩膜,刻蚀后的衍射元件达到工程化要求。

   

 

 

 

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
      
 
 
 
 
 

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