·李孝峰教授课题组赴捷克参加PIERS2015
·实验室成员参加国际能源、材料与光子学会议(EMP15)
·实验室成员参加PIERS2014
·实验室成员参加AOM2014
·李孝峰教授参加中国密码学会混沌保密通信专业委员会筹备工作组第一次工作会
·亮点论文:高雷教授与仇成伟课题组合作在Laser & Photonic Reviews 上发表论文
·亮点论文:李孝峰组近期在APL(IF3.515)发表3篇论文
·亮点论文:李孝峰组在Nano Energy(IF10.211)发表论文
·大口径衍射光学元件的研制
·微区纳米压印系统NanoMakerII
·江苏省先进光学制造技术重点实验室
·微结构光学与光子技术
·光学非球面加工和检测技术
·光学设计与光学系统
·新型光学与光子学材料
·激光成像装备与显示技术
  您当前的位置是:>> 首页  成果展示
 
微区纳米压印系统NanoMakerII
修改时间: 2009-05-22

     在国家发改委科技专项和苏州市科技专项的资助下,本实验室申溯博士带领的课题组,研制成功了“微区纳米压印系统”(Micro-head Nano-Imprinting System:NanoMakerII)。顾名思义就是在微小区域上进行微纳米结构的压印。

     微区纳米压印系统(NanoMakerII)”主要针对“阵列微纳米结构器件和模具”的研制,如制作微透镜阵列光变衍射图像阵列、MEMS和微纳光电子器件等。NanoMakerII具有压印深度和微结构转角可控特点,根据设计要求压印出不同深度和取向角的压印单元并组成列阵。NanoMakerII 的压印方法已申请中国发明专利。

     新型NanoMakerII单面压印NIL设备进入工程化的纳米技术的应用领域、支持多种材料,如光刻胶和聚合物的压印光刻等。

    应用领域:涵盖亚波长衍射光学元件、纳米电子器件、光存储器件、表面等离子体集成光器件、光生物芯片、微流体器件等。具体应用:可加工各种微透镜阵列、微区纳米结构压印、金字塔微结构和其他复杂结构。微透镜阵列模具,MENS,BioChip,微透镜扩散薄膜模具等.
 
性能参数
  • 压印分辨率:50nm
  • 压印深度:50nm~500um可控
  • 微区尺寸:微区10~500um,小区500um~2mm,中区2mm~5mm
  • 压印头:旋转角度:0~180o,微压印头抬升均有伺服电机驱动
  • 加热温度(数控):室温至300oC,10mins,稳定性1oC度
  • 压力传感:气压传感器,深度控制:气压、温度和微头太深高度
  • 微压印头:伺服电机控制
  • 平台:伺服电机或者纳米陶瓷电极驱动,精度(检测传感)可根据客户要求定制
  • 软件:支持点阵运行模式,支持客户设定

采用MH-NanoMakerII制作的微透镜阵列照片

 

 

 
 

江苏省先进光学制造技术重点实验室 版权所有 2008-2010
地址: 江苏省苏州市十梓街一号 邮编:215006 电话:0512-65112231 传真:0512-65112232