实验室成员荣获2010年“中国专利优秀奖”
时间: 2012-09-11 作者: 浏览次数: 1897
2011年11月13日，国家知识产权局和世界知识产权组织在京举行第十二届中国专利奖颁奖大会，隆重表彰运用知识产权制度，为技术创新和经济社会发展做出突出贡献的发明人、设计人和专利权人。全国人大常委会副委员长路甬祥出席大会，并为获奖代表颁奖。国家知识产权局局长田力普和世界知识产权组织专利与创新司司长菲利普・巴赫托德出席大会并讲话。
SVG won the WIPO-SIPO Award for Chinese Outstanding Patented Innovation & Industrial Design on the Ceremony for 12th Chinese Patent Award by the State Interllectural Property Office(SIPO) of PRC on Nove.13, 2010.
由国家工信部推荐，苏州大学与苏州苏大维格光电科技股份有限公司共同发明的“衍射光变图像的高速激光直写方法和系统”（ZL200510095775.2）专利荣获2010年“中国专利优秀奖”。这是本年度苏州市唯一获中国专利奖的专利。
中国专利奖根据《中国专利奖评奖办法》规定，经各地知识产权局、国务院有关部门和单位、有关行业协会，以及中国科学院院士和中国工程院院士推荐，由中国专利奖评审委员会评审、国家知识产权局和世界知识产权组织审核，国家知识产权局和世界知识产权组织发布，在国内外具有广泛的影响。本届中国专利奖，全国共有15项专利获“中国专利金奖”，179项专利获“中国专利优秀奖”。
“ 衍射光变图像的高速激光直写方法和系统”由陈林森、解剑锋、沈雁、魏国军、邵洁、周小红、吴建宏、毛立华、汪振华发明。该项发明专利主要解决了亚微米结构的快速图形化难题，将微纳结构光变图像的光刻直写效率提升数十倍以上，从而，使得大幅面3D图像和光变图像制造的工业化成为可能，这是微纳光学图像领域的一项重要制造方法，具有广泛的应用领域和前景。