报告题目：反应性尘埃等离子体及应用

报告人：王友年 大连理工大学教授

报告时间：2015年4月12日上午10:00

报告地点：物理科技楼101

报告摘要：等离子体技术已经广泛地应用半导体芯片及薄膜硅太阳能电池等制备工艺中。特别是在等离子体增强化学气相沉积(PECVD）技术中，通常采用一些反应性气体放电，如CH2，CH4 及SiH4 等气体。实际上，这些反应性气体放电产生的等离子体就是尘埃等离子体，它除了含有电子、离子、负离子及中性粒子外，还包括一些尺寸在纳米量级的尘埃颗粒。研究这些纳米颗粒的形成、生长及输运过程对纳米结构薄膜（如微晶硅薄膜）和纳米结构物质（如纳米管）的制备工艺具有重要的指导意义。本文（报告）将对反应性气体等离子体的产生、纳米颗粒的形成与输运，以及纳米等离子体技术的应用做简单的综述。