曝光光学系统“大口径衍射光学元件的研制”研制成功大口径脉宽压缩光栅掩膜，在介质反射光栅制作技术、测试和工艺达到国际先进水平，填补了我国在该领域的空白。

     研制了大口径全息曝光系统、适合于长时间曝光的全息干涉条纹锁定系统等关键设备，形成了大面积光刻胶涂布、全息曝光和显影的完整工艺，设计研制了全息曝光监测和显影监测等工艺监测系统，建立了大口径衍射光学元件全息掩模研制的试验基地，研制出适合刻蚀工艺的脉冲压缩光栅和取样光栅全息掩膜，刻蚀后的衍射元件达到工程化要求。