在国家发改委科技专项和苏州市科技专项的资助下，本实验室申溯博士带领的课题组，研制成功了“微区纳米压印系统”(Micro-head Nano-Imprinting System:NanoMakerII)。顾名思义就是在微小区域上进行微纳米结构的压印。

     微区纳米压印系统（NanoMakerII）”主要针对“阵列微纳米结构器件和模具”的研制，如制作微透镜阵列、光变衍射图像阵列、MEMS和微纳光电子器件等。NanoMakerII具有压印深度和微结构转角可控特点，根据设计要求压印出不同深度和取向角的压印单元并组成列阵。NanoMakerII 的压印方法已申请中国发明专利。

     新型NanoMakerII单面压印NIL设备进入工程化的纳米技术的应用领域、支持多种材料，如光刻胶和聚合物的压印光刻等。

    应用领域：涵盖亚波长衍射光学元件、纳米电子器件、光存储器件、表面等离子体集成光器件、光生物芯片、微流体器件等。具体应用：可加工各种微透镜阵列、微区纳米结构压印、金字塔微结构和其他复杂结构。微透镜阵列模具，MENS，BioChip，微透镜扩散薄膜模具等.

• 压印分辨率：50nm
• 压印深度：50nm~500um可控
• 微区尺寸：微区10~500um，小区500um~2mm，中区2mm~5mm
• 压印头：旋转角度：0~180^o，微压印头抬升均有伺服电机驱动
• 加热温度（数控）：室温至300^oC，10mins，稳定性1^oC度
• 压力传感：气压传感器，深度控制：气压、温度和微头太深高度
• 微压印头：伺服电机控制
• 平台：伺服电机或者纳米陶瓷电极驱动，精度（检测传感）可根据客户要求定制
• 软件：支持点阵运行模式，支持客户设定